自聚焦结构光场与高分辨光声成像技术

自聚焦结构光场与高分辨光声成像技术（物理格致论坛第114期）

时 间：9月12日（周二）14:00

地 点：闻理园 A4-218

报告人：孙明丽

报告人简介：孙明丽，博士后，博士毕业于浙江大学，博士后工作在之江实验室，主要从事光场调控技术与光声成像技术的研究。共发表8篇SCI论文，授权专利2项，获得1项之江实验室青年基金其中以第一（含共一）作者发表文章4篇，包括Optics Express(三篇）、Applied Physics B等光学领域期刊。